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分子版本记录宣布 Imprio 1100 精确度版本记录石版印刷系统

Published on February 13, 2007 at 12:53 PM

Molecular Imprints, Inc. (MII) 今天揭幕最新的添加对版本记录石版印刷工具其 Imprio 线路在光贸易会议的方法。 Imprio 1100 精确度版本记录石版印刷系统是一个高处理量,被设计的全部的薄酥饼刻印器启用在清楚的下一代设备应用,包括发光二极管 (LEDs),硬盘驱动器的高密度磁盘基体 (HDD)和要求高解析度仿造和三维功能的光学要素。 MII 在 2007年出售和安装的二其新的 Imprio 1100 个系统并且期待几个另外的销售额和系统位置。

高亮光 LED 市场,对 MII 的新的 Imprio 的几市场申请之一 1100,预测加倍在光的创建、提取和收集的持续的预付款驱动的以后 5 年。 许多最有为的新技术,例如,数量为轻的生成,仿造为轻的提取的基体加点,并且轻的收藏的光子的水晶,要求这个能力仿造毫微米缩放比例功能。 Imprio 1100 提供有效仿造在化合物半导体行业通常遇到的脆弱,非平面的基体的子50nm 功能。 同样高分辨率进程可能也用于仿造象激光二极管土坎的更大的功能和与史无前例的模式保真度和 CD 的控制的绕射的光学要素。

Imprio 1100 精确度版本记录石版印刷系统在结合 e 射线石版印刷与这个处理量,重叠解决方法和 CD 的控制和运行屏蔽直线对准器的简单的充分地自动化的 nanoimprint 石版印刷方面代表下一代。 可以配置这个系统接受最常用的基体类型并且对先进发展、试验生产或者充分的生产是理想的根据所选的选项。 MII 被证明的,步骤和一刹那版本记录石版印刷 (S-FILTM) 进程、模板制造技术支持、模板副本功能和应用专门技术联合收获机导致与最好的一个有效版本记录石版印刷解决方法在所有权的成本计算分类法。

“MII 在 CMOS 薄酥饼取得了极大的进展在适应 S-FIL 进程的前 18 个月期间,原来地开发为步骤和重复版本记录石版印刷,化合物半导体行业的特定需要。 MII 在化合物半导体薄酥饼脆弱,非平面的表面可能现在提供已建成投付使用的平版印刷的进程有能力在高处理量和长的处理寿命上”。 前述标记 Melliar 史密斯,分子版本记录的 CEO。 “另外, I-1100 保形 S-FIL 技术为象仿造的相似的高分辨率应用分离跟踪和位硬盘驱动器发展的被仿造的媒体和光学要素的精确度刺耳结构提供启用的技术”。

http://www.molecularimprints.com

Last Update: 3. February 2012 18:44

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