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Pletora di Pubblicazioni Dall'Istituto Universitario di Scienza e di Assistenza Tecnica di Nanoscale Da Presentare alla Conferenza di Nanoelectronics

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

Più Di 30 scientifici e le relazioni tecniche basate sulla ricerca condotta all'Istituto Universitario di Scienza di Nanoscale e di Assistenza Tecnica (“CNSE„) dell'Università a Albany saranno presentati ad una delle conferenze principali del mondo messe a fuoco sull'industria globale di nanoelectronics.

In Tutto, 31 documento sarà presentato alla conferenza in San José, CA della Litografia Avanzata SPIE che rappresentano il lavoro realizzato al Complesso di Albany NanoTech di CNSE dai gruppi di ricerca di CNSE, dai gruppi di ricerca dei partner corporativi globali di CNSE residenti a Albany NanoTech - compreso IBM, AMD, Internazionale SEMATECH, ASML, Elettrone di Tokyo e Materiali Applicati - o dalla giuntura CNSE e dai gruppi di ricerca dei partner residenti a Albany NanoTech.

I documenti coprono un intervallo degli argomenti e della ricerca innovatrice del profilo in litografia, che è veduta come critica alla fabbricazione delle unità future di nanoelectronics. Incluso fra le aree tecniche in cui le novità sono riferite sono (“EUV„) sistemi ultravioletti estremi, resiste a e maschera; materiali e trattamenti di litografia di immersione; e, microlithography ottico.

Il Dott. Alain E. Kaloyeros, Vicepresidente ed Ufficiale Amministrativo Principale di CNSE, ha detto, “La presentazione di più di 30 scientifici e relazioni tecniche alla conferenza della Litografia Avanzata SPIE basata sulla ricerca realizzata al Complesso di Albany NanoTech di CNSE più ulteriormente dimostra il knowhow intellettuale di livello internazionale e le capacità tecniche ineguagliate al UAlbany NanoCollege. L'eccellenza riconosciuta di questa risorsa vero unica per formazione alta tecnologia, la ricerca, lo sviluppo e la commercializzazione è in relazione con la visione, il supporto e l'investimento dei funzionari eletti di New York, che hanno creato un paradigma educativo aprente la strada a CNSE e lo sviluppo tecnologico accelerato fra le società principali del nanoelectronics del mondo.„

Il Dott. James G. Ryan, il Vicepresidente del Socio della Tecnologia ed il Professor di Nanoscience a CNSE, hanno detto, “Le relazioni tecniche scientifiche e generate a Albany NanoTech di CNSE dal NanoCollege e dai nostri partner corporativi globali sottolineano la potenza di collaborazione fra l'accademia e l'industria nello stimolo dell'innovazione. Siamo sicuri che gli sviluppi riferiti a SPIE svolgeranno un ruolo importante nello sforzo per accelerare l'introduzione della litografia ultravioletta estrema in fabbricazione.„

La conferenza di SPIE, essendo tenendo 24-29 febbraio, attira migliaia di membri ed è considerata l'evento tecnico più importante a semiconduttore dell'industria della litografia.

Last Update: 17. January 2012 09:43

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