在納米電子學會議將提交論文的洪水從納米科學與工程學院

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

30多名科學和技術的基礎上進行的研究論文在大學奧爾巴尼分校納米科學與工程學院 ( “CNSE”)將提交世界領先的專注於全球的納米電子行業會議之一。

在所有的,31文件將被提交在聖聖何塞,CA的代表進行 CNSE的奧爾巴尼納米技術複雜或者CNSE的研究團隊的CNSE的全球“企業合作夥伴的研究居住在奧爾巴尼納米技術團隊,工作光學學報高級光刻會議 - 包括IBM AMD,國際 SEMATECH,ASML公司,東京電子和應用材料公司 - 聯合 CNSE和合作夥伴的奧爾巴尼納米技術研究小組在居民。

這些論文涵蓋了各種各樣的主題,和輪廓光刻技術的創新,這是為未來的納米電子器件的製造的關鍵研究。之間的新的發展報告的技術領域包括極紫外(EUV技術“)系統,抵制和口罩;浸沒式光刻技術的材料和工藝,光學光刻。

五Kaloyeros阿蘭博士,副總裁兼行政主任CNSE說:“30多個科學和技術在SPIE先進光刻技術基礎上進行的研究在CNSE的奧爾巴尼納米技術複雜的會議文件的演示,進一步展示了世界一流的智力知道,如何和在UAlbany NanoCollege無與倫比的技術能力。在這個高科技教育的真正獨特的資源公認的卓越,研究,開發和商品化是一個的視野,支持和紐約的民選官員的投資致敬,有在CNSE和加速技術的發展,躋身於世界領先的納米電子公司開拓的教育模式。“

詹姆斯G瑞安,和納米技術在CNSE教授協理副校長,博士說:“科學和技術的CNSE的奧爾巴尼納米技術所產生的NanoCollege和我們的全球企業合作夥伴的論文強調學術界與產業界之間的協作的力量促進創新,我們有信心在SPIE報導的發展將發揮重要的作用,努力加快極端紫外線光刻技術引入到生產。“

年2月24-29日舉行,光學學報會議,吸引了數以千計的與會者,被認為是半導體光刻技術行業最重要的的技​​術盛會。

Last Update: 7. October 2011 04:26

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