堆從 Nanoscale 科學和工程學院的研究論文將存在的在 Nanoelectronics 會議

Published on February 26, 2008 at 1:51 PM

超過 30 科學和在研究基礎上的技術文章開展在學院 Nanoscale 科學和工程 (CNSE) 大學在阿爾巴尼將存在一致於全球 nanoelectronics 行業集中的領先世界的會議。

總計,表示工作進行在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 複雜由 CNSE 研究小組,由 CNSE 全球總公司合作夥伴的研究小組常駐在阿爾巴尼 NanoTech 的 31 份論文將被介紹在 SPIE 提前的石版印刷會議在聖荷西,加州 - 包括 IBM、 AMD、國際 SEMATECH、 ASML、東京電子和被應用的材料 - 或由聯接 CNSE 和合作夥伴的研究小組常駐在阿爾巴尼 NanoTech。

文件報道主題範圍和概述創新研究在石版印刷方面,被看到如重要對將來的 nanoelectronics 設備製造。 包括在新發展計劃報告是極其紫外的技術區中 (「EUV」) 系統,抵抗并且屏蔽; 浸沒石版印刷材料和進程; 并且,光學 microlithography。

阿蘭 E. Kaloyeros,副總統和首席行政官博士 CNSE,說, 「介紹超過 30 科學和技術文章在研究基礎上的 SPIE 提前的石版印刷會議進行在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 複雜進一步展示國際水平的智力技術和不匹配技術功能在 UAlbany NanoCollege。 此正確地唯一資源被認可的優秀高科技教育、研究、發展和商品化的是頌詞對紐約的選舉官員的遠見、技術支持和投資,創建了作早期工作在的培訓示例在 CNSE 和在領先世界的 nanoelectronics 公司中的加速的技術開發」。

詹姆斯 G. 賴安博士,技術的關聯在 CNSE 的 Nanoscience 副總統和教授,說, 「科學和技術文章被生成在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech 由 NanoCollege 和我們的全球總公司合作夥伴強調協作的功率在學術界和行業之間的在促進創新。 我們確信發展報告在 SPIE 在這個工作成績將扮演重要作用加速極其紫外石版印刷的簡介到製造」。

SPIE 會議,被暫掛 2月 24-29,吸引千位參與者和被認為半導體石版印刷行業的最重要的技術活動。

Last Update: 3. June 2015 09:41

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