Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

För Nanoimprint för EV-GruppShips 100. System Lithography

Published on October 14, 2008 at 10:04 AM

EV-Gruppen (EVG), en ledande leverantör av rånbindningen och lithographyutrustning för MEMSEN, nanotechnology och halvledaren marknadsför, i dag meddelat det har sänt dess 100. nanoimprintlithography (NIL)system. Milstolpesändningen är viktig inte endast för EVG -- vilka håll per ungefärlig 30 procent aktie av marknadsföra med de mest NOLLsystemen i sätta in, -- men också för branschen som är total-, som den baserar servar att markera den viktiga tillväxten av den installerade globala NOLLEN, som har mer än dubblerats över de förgångna fyra åren.

”Är Nanoimprint lithography en möjliggöra teknologi för optiska och microfluidic applikationer,” noterade Paul Lindner, den utöva teknologidirektören för EV-Grupp. ”Med EVGS firmaförpliktelse till NOLLutveckling och commercialization, samman med våra bransch-ledande NOLLprodukter som är inklusive vår EVG770 Gradvisa fullständigt-automatiserade NOLL och Hoad EVG750 som fullständigt-automatiseras Utföra i relief system, återstår vi väl placerade för att gynna som dessa, och annan marknadsför liksom kemisk och biosensorflyttning in i kick-volym produktion.”,

EVGS 100. understrykningar för sändning för NOLLsystem bearbetar mer ytterligare det pågående drevet som breddar adoption av NOLL. Som en ledande förespråkare av detta försök grundade EVG NILCOM-Konsortiet i 2004. Beskickningen av konsortiet, vars dussina medlemmar spänner över utrustning, material, bearbetar, och forskning, är att upprätta en fabriks- plattform för kick-volym NOLL som kan kommersiellt utplaceras inom en lång räcka av teknologiarenas, den inklusive nanoelectronicsen, optoelectronics, datalagring och vetenskaperna om olika organismers beskaffenhet.

Nya framgångar i dessa områden har inklusive NOLL bearbetar användas kommersiellt i optiken marknadsför för CMOS avbildar avkännare, marknadsför optisk gallrar och Ljusdioder såväl som förpliktelse från hårddisk (HDD)drevet för att använda NOLL för deras kretsscheman i åtskild spårar inspelning (DTR) och bet mönstrar massmedia (BPM). Dessa att närma sig förväntas att genomföras i framtida utvecklingar av HDD-produkter för att möjliggöra tätheter för datalagring överstigande 10^12 bits/in^2.

EVG ska gåva rymms dess nya funktionsdugliga stämpelteknologi för UV-baserade imprintlithographyapplikationer på den 7th årliga LandskampKonferensen på Nanoimprint och Nanoprint Teknologi (NNT), som ska, Oktober 13-15, 2008 på den Kyoto LandskampKonferensen Centrerar i Kyoto, Japan.

Last Update: 24. January 2012 01:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit