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ASML-Holding Stellt Innovationen in der TWINSCANTM-Lithographie-Plattform vor

Published on October 15, 2008 at 9:01 PM

ASML, das NANOVOLT stellte Anhält heute, Innovationen in seiner TWINSCANTM-Lithographieplattform vor, die beträchtliche Verbesserungen in der Überlagerung und in der Produktivität anbieten und die Halbleiterindustrie aktivieren, seine Straßenkarte für die hochentwickelteren und erschwinglicheren Chips fortzusetzen. Die Plattform TWINSCAN NXT, dargestellt den Media an der ASML-Forschungs-Zusammenfassung wird auch für auftauchende doppelte kopierende Techniken entsprochen, die Hersteller benötigen, um die kleinsten Chip-Merkmale durch bis 42 Prozent zu schrumpfen.

Die Plattform TWINSCAN NXT kennzeichnet ein neues planares Waferbühnenbild und dehnt die modulare TWINSCAN-Architektur (von, welchem fast 900 Anlagen verkauft worden sind), für mehrfache Generationen von ASML-Lithographiemaschinen aus. Eine Grundlinie für weitere Leistungsverbesserungen Zur Verfügung Stellend, ist die neue Waferstufentechnologie zu die Tendenz der aggressiven Chip-Kostenaufstellung gut fortsetzen in die Zukunft Schlüssel.

Dank ein neues Konzept und innovativen Materialien, die Waferstufe ist beträchtlich heller als vorherige Generationen. Dieses, im Verbindung mit einer eleganten Auslegung, die Unkosten verringert, aktiviert hohe Beschleunigung für kürzere Positionierungs(tretende) Zeiten. Infolgedessen verbessert die Plattform zuerst Produktivität durch mehr als 30 Prozent.

Darüber hinaus bringt eine neue Positionierungsmaßanlage die Waferstufe genauer als in Stromsysteme in Position. Die resultierende Überlagerungsverbesserung von 50 Prozent hilft Herstellern, bessere Regelung ihres Prozesses zu gewinnen, also können sie bessere Chips pro Wafer produzieren und Transistorgrößen weiter schrumpfen.

„Merkmalspsychiater treibt die Halbleiterindustrie vorwärts, indem er kleinere Chips mit größerer Funktionalität aktiviert und untere Leistungsaufnahme,“ sagt Martin van den Brink, Exekutivvizepräsident ASMLS vom Marketing und von der Technologie. „Unsere neuen Anlagen holen Verbesserungen, die kleineren Merkmalen des Chip-Hersteller-Bildes helfen. Die Bessere Waferpositionierung entbindet mehr Darstellungsregelung und bessere Überlagerung. Im Verbindung mit verbesserter Produktivität öffnet die Plattform TWINSCAN NXT die Strecke, um kopierende Techniken zu verdoppeln, die Chipherstellern im Laufe der Zeit erlauben, vorhandene Immersionslithographietechnologie für Massenproduktion am 32-nm-Knotenpunkt einzusetzen und jenseits.“

Last Update: 14. January 2012 18:08

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