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Le Impronte Molecolari Annuncia la Fase Prossima di sua Campagna In Corso di Approvazione e di Formazione di S-FIL

Published on December 10, 2008 at 10:16 PM

Molecular Imprints, Inc., una guida della tecnologia e del mercato per i sistemi e le soluzioni nanopatterning, oggi hanno annunciato la fase prossima di sua campagna in corso di approvazione e di formazione di S-FIL® (Punto e Flash® Imprimono la Litografia). La società costruirà su parecchi successi notevoli raggiunti nel 2008, come la campagna di S-FIL apre la strada per sia le industrie del drive del hard disk che (HDD) a semiconduttore alla transizione a questo modulo avanzato della litografia del nanoimprint. Le Impronte Molecolari egualmente amplieranno i sui sforzi nel servizio (LED) del diodo a emissione luminosa.

Fra la campagna i risultati chiave nel 2008 erano la normalizzazione continua dall'industria di HDD sulla tecnologia di S-FIL, con il numero degli ordini dalle società di HDD per i sistemi di S-FIL che raggiungono complessivamente 10, sei di cui hanno spedito. Nell'industria a semiconduttore, la consegna accettata di SEMATECH di nuovo sistema di Imprio 300 e l'impianto e l'accettazione formale completati in una registrazione 68 giorni. Il consorzio leader del settore caratterizzerà S-FIL per fabbricazione del volume al vertice 32nm e sotto.

“Nel 2008, le Impronte Molecolari' soluzione di S-FIL ulteriore hanno solidificato la sua posizione come la tecnologia della litografia della scelta per i media che modellati la produzione nell'industria del drive del hard disk, mentre nell'industria S-FIL a semiconduttore è diventato un candidato favorito per uso in 32nm e sotto produzione di memoria non volatile del volume,„ ha detto il Segno Melliar-Smith, CEO delle Impronte Molecolari. “Il movimento verso fabbricazione a semiconduttore è stato provato non solo tramite le azioni concrete, quale l'investimento di SEMATECH sviluppare S-FIL per fabbricare, ma anche dalle indagini di industria dalle organizzazioni quali Wright, Williams & Kelly che ha trovato che il numero dei partecipanti dell'industria che pensano vedere la litografia dell'impronta nella produzione fra 2010 e 2012 ha saltato oltre 50 per cento e considerevolmente, davanti a EUV. Poichè i produttori migliori capiscono l'ad alta definizione, i vantaggi di basso costo de proprietà di S-FIL, lo slancio per approvazione accelera. A tal fine più ulteriormente miglioreremo la nostra campagna di S-FIL nel 2009.„

Come gli sforzi di formazione aumentati Impronte Molecolari su S-FIL nel 2008, l'interesse in questo tecnologia nanopatterning avanzata rosa ed ordini del sistema seguiti. Come componente delle sue attività connesse con l'istruzione per 2009, le Impronte Molecolari parteciperanno a parecchie fiere e conferenze di industria chiave, compreso le Strategie alla Conferenza Leggera, alla Conferenza della Litografia Avanzata SPIE, all'Ovest di SEMICON e a DISKCON U.S.A.

Questi aspetti seguono nel 2008 i riusciti sforzi dell'esagerare della società che incluso consegnare l'allocuzione d'apertura sulla litografia tende a DISCKON U.S.A. come pure dà un indirizzo invitato alla Micro & conferenza Nana (MNE) di Assistenza Tecnica. Le Impronte Molecolari costruiranno sul suo esagerare di formazione affatto di questi eventi ampliando la sua partecipazione in atti del congresso, articoli tecnici e le presentazioni orali, compreso i risultati dagli sforzi con i partner che stanno convalidando S-FIL per le applicazioni di produzione. Oltre agli sforzi di formazione, la campagna aumenterà il suo fuoco nel 2009 sul miglioramento dell'infrastruttura di S-FIL ai clienti di sostegno come si muovono più vicino a produzione in volume su unità e sui sistemi di prossima generazione del disco rigido e semi conduttori di memoria.

Oltre le nuove associazioni, gli ordini del sistema e gli aspetti di evento, campagna di S-FIL delle Impronte Molecolari' nel 2008 sono stati caratterizzati da parecchi risultati del punto di riferimento, compreso l'introduzione del Imprio 300 per l'industria a semiconduttore e del Imprio HD2200 per l'industria di HDD. Rivelato nel febbraio 2008, il Imprio 300 rappresenta la soluzione nanopatterning di costo-de-proprietà più di alta risoluzione e più bassa per modello di IC e lo sviluppo trattato al vertice 32nm e sotto. Il Imprio HD2200, che è stato presentato tre mesi più successivamente, è il solo sistema nanopatterning per permettere sia allo sviluppo che alla produzione del pilota dei media a doppia faccia del reticolo. Nel rispetto dei vantaggi di S-FIL per i media modellati, che sono offerti nel Imprio HD2200, le Impronte Molecolari egualmente hanno ricevuto Il Più Bene il DISKCON U.S.A. nel premio di Manifestazione per migliore uso di una nuova tecnologia.

Last Update: 17. January 2012 06:37

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