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分子版本记录宣布下个阶段其持续的 S-FIL 采用和教育竞选

Published on December 10, 2008 at 10:16 PM

Molecular Imprints, Inc.,市场和技术领导先锋 nanopatterning 的系统和解决方法的,今天宣布了下阶段其持续的 S-FIL® (步骤和 Flash® 印石版印刷) 采用和教育竞选。 在 2008年这家公司在达到的几值得注意的成功将编译, S-FIL 市场活动铺平道路半导体和硬盘驱动器行业的 (HDD)对与 nanoimprint 石版印刷的此先进的表单的转移。 分子版本记录在发光二极管市场上也将扩展其 (LED)工作成绩。

在 2008年在这个市场活动的中关键成绩是继续的标准化由在 S-FIL 技术的 HDD 行业,与命令的数量由到达总共 10 的 S-FIL 系统的 HDD 公司,六运送了。 在半导体行业, SEMATECH 接受了一个新的 Imprio 300 系统的发运并且完成了安装和正式采纳在记录 68 天。 这个领先业界的财团分析以下数量制造的 S-FIL 在这个 32nm 节点。

在 2008年 “分子版本记录’更加进一步 S-FIL 的解决方法变硬了其位置,当选择石版印刷技术被仿造的媒体生产的在硬盘驱动器行业,而在半导体行业 S-FIL 成为一名支持的候选人为使用在 32nm 和在数量固定存储器生产下”,说标记 Melliar 史密斯,分子版本记录的 CEO。 “移动朝半导体制造不仅由具体行动见证,例如 SEMATECH 的投资开发制造的 S-FIL,而且由从组织的行业调查例如怀特、查找的威廉斯 & 凯利行业的参与者的数量期望发现版本记录石版印刷在生产在 2010年和 2012年之间跳过了 50% 和值得注意地,在 EUV 前。 因为更好的制造商了解高分辨率, S-FIL 的低费用所有权好处,采用的动力加速。 鉴于此我们在 2009年进一步将提高我们的 S-FIL 市场活动”。

在 2008年作为分子版本记录在 S-FIL 的被增强的教育工作成绩,利息在这中玫瑰色先进 nanopatterning 的技术和按照的系统顺序。 作为其教育活动一部分在 2009年,分子版本记录将参加在几个基础产业内部预映和会议,包括方法轻的会议、 SPIE 提前的石版印刷会议、 SEMICON 西部和 DISKCON 美国。

这些外观在包括做在石版印刷的开幕词趋向在 DISCKON 美国的 2008年按照公司的成功的拓展工作成绩,以及产生一个被邀请的地址在微 & 纳诺工程 (MNE)会议。 分子版本记录在其教育拓展将编译这些活动通过扩展其参与在会议文件,技术条款和口头介绍,包括发现从工作成绩与验证 S-FIL 生产应用程序的合作伙伴。 除教育工作成绩之外,在 2009年这个市场活动将增加其重点在提高 S-FIL 基础设施给支持客户,他们移动离在下一代固体和光盘存储设备和系统的批量生产较近。

在新的合伙企业之外,系统顺序和活动外观,在 2008年分子版本记录’ S-FIL 市场活动描绘为几个地标成绩,包括 Imprio 300 和 HDD 行业的 Imprio HD2200 的简介半导体行业的。 揭幕在 2008年 2月, Imprio 300 表示集成电路原型的在这个 32nm 节点的以下最高分辨率,最低的费用所有权 nanopatterning 的解决方法和工艺过程开发。 Imprio HD2200,介绍以后三个月,是启用发展和两面的模式媒体的飞行员生产的唯一的 nanopatterning 的系统。 按照 S-FIL 的好处被仿造的媒体的,在 Imprio HD2200 提供,分子版本记录在显示证书也接受了 DISKCON 美国最好为对一种新技术的最佳的使用。

Last Update: 14. January 2012 08:31

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