Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Mercado mundial de nanoestampación espera llegar a $ 481,48 millones en 2012

Published on June 23, 2009 at 3:21 AM

GIA anuncia el lanzamiento de un amplio informe mundial sobre el mercado nanoestampación . Aunque las técnicas convencionales de litografía óptica son ampliamente utilizados para la fabricación de chips de circuito integrado con tamaños de hasta sub-100nm, su desventaja es la naturaleza misma cara de los sistemas de litografía de alta tecnología, que ha restringido su uso a las industrias que tienen acceso a gran cantidad de fondos. Las nuevas técnicas, nanoestampación convencionales intento de llenar este vacío ofreciendo a bajo costo y de alta a lo largo de los procesos de impresión.

Continuación de la investigación a las funciones de patrón de escala nanométrica utilizando diferentes materiales y se resiste ha surgido la aparición y el progreso de estampado en caliente, UV-NIL, impresión por microcontacto y nanolitografía dip-pen, entre otros. Todavía bajo investigación es la litografía nanostencil, una de alta resolución, el método de máscara de sombra con un potencial dinámico.

Entre las tecnologías nanoestampación, Litografía nanoimpresión (NIL) presenta las perspectivas más prometedoras. Con previsión de que NIL surge de éxito para la fabricación de semiconductores comerciales en el nodo de 32 nm en un futuro próximo, el mercado de NIL se proyecta un crecimiento más rápido entre 2008 y 2015. De las técnicas de NIL, litografía por nanoimpresión UV se prevé que crezca más rápido desde 2008 hasta 2015. Otra técnica NIL espera llevar a cabo muy bien es la litografía estampado en caliente.

El segundo mayor mercado nanoestampación, litografía exploración de la sonda, a ver derrumbaban sus cuotas de 2008 a 2015. Entre las diversas aplicaciones, aplicaciones de semiconductores y la fabricación microelectrónica representa la aplicación más grande nanoestampación.

El mercado mundial se caracteriza por los participantes como Ambios Technology, Inc. (EE.UU.), AMO GmbH (Alemania), EV Group (Austria), Hewlett-Packard Development Company, LP (EE.UU.), Chips IMS (EE.UU.), International Business Machines Corp. (EE.UU.), Micro Resist Technology GmbH (Alemania), Impresiones molecular, Inc. (EE.UU.), NanoInk, Inc. (EE.UU.), Nanonex Corp. (EE.UU.), NanoOpto Corp. (EE.UU.), Tecnología de NIL (Dinamarca) , Obducat AB (Suecia), Optomec, Inc. (EE.UU.), Sigma-Aldrich Corp. (EE.UU.), STMicroelectronics NV (Suiza), SUSS MicroTec AG (Alemania), Toppan Capitulo, Inc. (EE.UU.), dispositivos de transferencia, Inc . (EE.UU.), Veeco Instruments, Inc. (EE.UU.), y Vistec Semiconductor Systems GmbH (Alemania).

"Nanoestampación: A Global Strategic Business Report", anunció por Global Industry Analysts, Inc. proporciona una revisión comprensiva de las tendencias del mercado, tecnologías, técnicas, los jugadores, la competencia, investigación y desarrollo, los acontecimientos recientes, fusiones, adquisiciones y otras actividades de la industria estratégica. Análisis global se presenta para las tecnologías de nanoestampación como la litografía nanoimpresión (incluyendo estampado en caliente, UV-NIL, impresión por microcontacto y otros), litografía de sonda de barrido, y otros.

Last Update: 9. October 2011 04:29

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit