Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

Mercato globale per nanopatterning prevede di raggiungere $ 481,48 milioni entro il 2012

Published on June 23, 2009 at 3:21 AM

GIA annuncia il rilascio di una relazione complessiva globale sul mercato nanopatterning . Anche se le tradizionali tecniche di litografia ottica sono ampiamente utilizzati per la realizzazione di chip di circuiti integrati con funzione di dimensioni fino a sub-100nm, il loro lato negativo è la natura molto costoso dei sistemi high-tech litografia, che ha limitato il loro uso alle industrie che hanno accesso ai grandi mezzi economici. Nuove tecniche non convenzionali nanopatterning tentativo di colmare questo vuoto, offrendo a basso costo, alta in tutto i processi di imprinting.

La continua ricerca di caratteristiche di modello su scala nanometrica utilizzando materiali diversi e resiste Ciò ha causato l'emergenza e il progresso della goffratura a caldo, UV-NIL, stampa microcontact, e dip-pen nanolitografia, tra gli altri. Ancora in fase di ricerca è litografia nanostencil, ad alta risoluzione, metodo maschera forata con un potenziale dinamico.

Tra le tecnologie nanopatterning, litografia nanoimprint (NIL) presenta le prospettive più promettenti. Con la previsione che emerge NIL di successo commerciale per la produzione di semiconduttori al nodo a 32 nm nel prossimo futuro, il mercato dei NIL è destinato a crescere il più veloce tra il 2008 e il 2015. Delle tecniche NIL, litografia nanoimprint UV è destinato a crescere il più veloce 2008-2015. Un'altra tecnica NIL chiamato a svolgere bene è estremamente litografia goffratura a caldo.

Il secondo mercato nanopatterning, Scanning Probe litografia, vedrebbe il suo declino sociale da 2008 al 2015. Tra le diverse applicazioni, nei semiconduttori e nella fabbricazione microelettronica rappresentano l'applicazione più grande nanopatterning.

Il mercato globale è caratterizzato dai partecipanti come Ambios Technology, Inc. (USA), AMO GmbH (Germania), EV Group (Austria), Hewlett-Packard Development Company, LP (USA), IMS Chips (USA), International Business Machines Corp. (USA), Micro Resist Technology GmbH (Germania), Molecular Imprints, Inc. (USA), NanoInk, Inc. (USA), Nanonex Corp. (USA), NanoOpto Corp. (USA), Tecnologia NIL (Danimarca) , Obducat AB (Svezia), Optomec, Inc. (USA), Sigma-Aldrich Corp. (USA), STMicroelectronics NV (Svizzera), SUSS MicroTec AG (Germania), Toppan fotomaschere, Inc. (USA), dispositivi di trasferimento, Inc . (USA), Veeco Instruments Inc. (USA), e Vistec Semiconductor Systems GmbH (Germania).

"Nanopatterning: un Rapporto Globale Strategic Business" annunciato da Global Industry Analysts, Inc. fornisce una rassegna completa delle tendenze del mercato, le tecnologie, le tecniche, i giocatori, la concorrenza, ricerca e sviluppo, i recenti sviluppi, fusioni, acquisizioni ed altre attività industriali strategiche. Analisi globale è presentato per le tecnologie nanopatterning come litografia nanoimprint (compresi embossing a caldo, UV-NIL, stampa microcontact e altri), litografia a scansione di sonda, e Altro.

Last Update: 9. October 2011 16:53

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit