石版印刷由將存在的 SEMATECH 提前在 SPIE 會議

Published on February 18, 2011 at 4:49 AM

SEMATECH 專家將存在極其紫外 manufacturability 的世界領先的研究與開發 (EUV)結果和 extendibility、替代石版印刷和相關領域的計量學在 SPIE 提前的石版印刷在 2月 27日的 2011 個會議 - 3月 3日在聖荷西會議中心和 Marriott 在聖荷西, CA。

「我們對共享我們的在某些的進展是熱心的 EUV 基礎設施的發展的最重要的方面」,米,石版印刷的主任說布賴恩在 SEMATECH 的。 「通過強烈的研究與開發工作成績, SEMATECH 繼續導致啟用 EUVL 中試線準備和提前的 EUV extendibility 和替代石版印刷行業主導的結果」。

SEMATECH 工程師將報告在 EUV 屏蔽基礎設施, manufacturability,提前的 extendibility,替代石版印刷,計量學的進展,并且陳列他們的一些發現完全成功展示在風險工具功能的 20 篇論文突破結果,抵抗預付款、缺陷關連的處理檢驗、的調制盤和 nanoimprint。

更加重要地,存在的結果將是有助的在驅動要求的剩餘的基礎設施的及時的創建給充分的生產帶來 EUV。 在一個調查區域中,從 SEMATECH 的屏蔽空白開發中心的技術專家將報告與其多層證言進程的進展。 特別地, SEMATECH,與檢驗工具供應商合夥,識別缺陷缺陷緩和技術的來源和驗證。

其他 SEMATECH 文件開發中將陳列在計量學技術、光致抗蝕劑收縮、 scatterometry,非破壞性的 TSV 銘刻深度、 CD-SAXS - 一個可能的 X-射線計量學 CD 的技術的將來的節點 - 和一個光學 CD 的計量學技術的預付款在 NIST,是去年的 R&D 雜誌的 R&D 100 證書的獲獎者。

「先進發展計量學程序帶來國際水平的研究員,并且以及存取的工程師對重要提供先進的計量學功能的實驗室分析設備給我們的成員和半導體社區」,菲爾 Bryson,計量學的主任說在 SEMATECH 的。 「我們被激發與技術專家的一個威嚴的社區共享我們的結果集合在 SPIE,在推進半導體行業扮演越來越重大的作用往下一代」。

在全球半導體社區的主導的收集中, SPIE 會議串聯吸引千位專家以石版印刷和相關計量學,二的多種方面先進的微芯片生產最富挑戰性的區。

來源: http://www.sematech.org/

Last Update: 26. January 2012 15:35

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