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Automatizzata Nanoimprint Litografia Stepper - La EVG770 NIL Stepper da EV Group

EV Gruppo EVG770 litografia nanoimprint automatica (NIL) Stepper è stato progettato per passo e ripetere il grande zona UV-Nanoimprint Lithography (UV-NIL) processi compatibili per 100 mm fino a wafer da 300 mm. Il NIL Stepper copre le applicazioni come la scienza della vita, componenti ottici, mastering, 3D-litografia e R & D per i dispositivi a semiconduttore.

Caratteristiche del Automated EVG770 NIL Stepper includono:

  • Vuoto imprinting su un filato-on strato polimerico, che elimina i problemi di difetti causati da bolle d'aria intrappolate, che si traduce nel modello di fedeltà superiore
  • Sensori ottici in grado di allineare il timbro e wafer in perfetto parallelismo per il contatto senza compensazione cuneo
  • Chuck movimento attraverso un non-contatto sistema di cuscinetti per ridurre la contaminazione delle particelle
  • Alta precisione Sistema di allineamento con una precisione di + / -500 nm; allineamento di precisione: 50nm (opzionale)
  • Cella di carico misura di goffratura / de-goffratura forza, migliorando l'uniformità impronta e sicurezza di processo grazie al controllo forza attiva e consentendo in tempo reale, in-situ caratterizzazione dei vari disponibili in commercio resiste e anti-incollamento strati
  • Flessibile attrezzature livelli di automazione, rendendo il NIL passo-passo, una transizione facile ed economica da R & S alla produzione di piccole o grandi volumi
  • De facto fattore di forma di modello di abbreviare i tempi di consegna di fabbricazione
  • Capacità di supportare una vasta gamma di commercio resiste con diverse viscosità compreso tra 1 e 1.000 mPas diverse, migliorando la flessibilità del processo per lo stampaggio di micro e nanopatterning

Last Update: 29. October 2011 19:31

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