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段階 Nanoimprint の自動化された石版印刷 - EV のグループから段階 EVG770 無

EV のグループの段階 EVG770 によって自動化される Nanoimprint の (NIL)石版印刷はステップおよび繰り返しの大きい領域の 300 の mm のウエファーまで 100 つの mm のために互換性がある紫外線Nanoimprint 石版印刷 (UV-NIL) プロセスのために設計されています。 無段階的なカバーアプリケーションは半導体デバイスのための生命科学、光学コンポーネント、習得、 3D 石版印刷および R & D を好みます。

EVG770 の機能は段階無を下記のものを含んでいます自動化しました:

  • 優秀なパターン忠誠に終って引っ掛けられた空気泡最終的によって引き起こされる欠陥問題を除去するポリマー層回の a の捺印に掃除機をかけて下さい、
  • 接触なしのウェッジの補償のための完全なパラレリズムにスタンプおよびウエファーを一直線に並べる光学センサー
  • 粒子の汚染を減らすために無接触ベアリングシステムによって動きをチャックで取り付けて下さい
  • 正確さの高精度のアラインメントシステムの内の +/-500 nm; 良いアラインメント: 50nm (任意選択)
  • embossing/de 浮彫りになる力のロードセル測定は、実行中の力制御による押印の均等性およびプロセス信頼性を改善しておよび抵抗しまさまざまな商用化されたのリアルタイム、 in-situ 性格描写を可能にし、層を反スタックします
  • R & D する適用範囲が広い装置のオートメーションのレベルから小型か大量の製造業への無段階に、容易で、経済的な転移を
  • 製造の送受反転時間を短くする事実上のテンプレートの形式要素
  • 商用化されたのホストをサポートする機能はマイクロ鋳造物のためのプロセス柔軟性を改善するおよび nanopatterning 複数の 1,000 mPas に 1 間のさまざまな粘着性と抵抗します

Last Update: 11. January 2012 06:21

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