遠程等離子基本層證言 (ALD)進程和熱量 ALD 與 FlexALTM 基本層證言 (ALD)工具從牛津儀器

包括的事宜

背景

唯一系統增益

進程

產品範圍

背景

牛津儀器』 FlexAL 產品系列通過提供遠程等離子基本層證言進程和熱量 ALD 在一個唯一系統內傳送提供靈活性和功能的一個新的 (ALD)範圍在 nanoscale 結構和設備工程:

•        在材料選擇的最大的靈活性和前體

•        等離子啟用的低溫進程 ALD

•        低的損害被維護使用遠程等離子

•        可控制,可重複的進程通過處方主導的軟件界面

唯一系統增益

•        能力從小的薄酥餅處理編結充分的 200 mm 薄酥餅

•        安全性、低微粒計數和短的裝載對進程起始時間時間的負荷鎖著的薄酥餅項

•        提供與風扇協助解決的烤箱和優化激昂的交貨行的唯一前體送貨系統準確的前體溫度控制

•        在前體模塊的集成手套盒原地轉換的

•        允許原地 ellipsometry 評定工具的添加的集成端口。

•        適合緊湊空間少於 2 x 2 m 甚而與前體模塊的最大數字

•        在與其他處理工具的字符串系統集成,包括牛津銘刻和證言工具的儀器 Plasmalab®System100 範圍

•        返回通過牛津儀器的全球銷售額和支持網絡; 当平臺技術在普遍的 PlasmalabSystem100 進程工具基礎上, FlexAL 產品系列受益於證明的可靠性完全成功 300 個安裝的系統全世界

•        開發經與主導的基本層證言 (ALD)專家磋商關於歐洲、韓國美國

•        從 ASM 國際 NV 的被准許的技術

進程

標準進程可用在 FlexAL 系統包括:

•        AlO23 遠程等離子進程 - 下來對室溫證言

•        HfO2 高的 k 電介質遠程等離子進程

•        HfO2 高的 k 電介質上升暖流 ALD 進程

•        罐子遠程等離子進程

產品範圍

FlexAL ALD 產品系列包括:

•        提供遠程等離子 ALD 的 FlexALRP

•        FlexALRPT 提供的遠程等離子和熱量 ALD 在提供前體和進程一個寬選擇的一個唯一系統

•        提供大範圍在遠程等離子和熱量 ALD 內的前體選項的 FlexALRPX,有前體發運模塊和證言溫度的最大數字至 700 ºC

AZoNano - 納米技術 A 到 Z - 由遠程等離子基本層證言的保形鍍錫

圖 1. 由遠程等離子基本層證言的保形鍍錫 (ALD)

AZoNano - 納米技術 A 到 Z - FlexAL ALD 系統

圖 2. FlexAL ALD 系統

來源: 牛津儀器

關於此來源的更多信息请請參觀牛津儀器

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask regarding this article?

Leave your feedback
Submit