Eulitha Nanoimprint 模板

Eulitha 的 nanoimprint 模板制造与电子束或其唯一 EUV 石版印刷技术。 标准模板包括 35 毫微米半间距线性滤栅和 53 个毫微米半间距小点列阵,其中之二用例外质量由于做 EUV 风险功能。 定制的模板根据与最适当的技术选择的客户说明做: EUV 技术启用高分辨率定期结构的生产 (子100nm) 在大区,而 e 射线为做任意模式使用。

Eulitha 的模板的应用包括工艺过程开发和核实、纳诺光学、 SERS 基体、被仿造的磁介质、显微镜定标、纳诺电子和 templated 自集合。 与我们联系与您的对专家意见的需要从我们举世闻名的科学人员。

关键功能:

  • 下来解决方法到 20 毫微米
  • 反黏附力涂层 (选项)
  • 4-6 个星期快速周转时间
  • 区/解决方法组合 (即 35 毫微米 1cm)2

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