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SpritzenAnlage DCA-Instrument-L400 UHV

SpritzenAnlage DCA-Instrument-L400 UHV

Die Magnetronspritzenanlage L400 UHV ist für das sequenzielle Spritzen mit beweglichen Magnetrons bestimmt. Herkömmliche sequenzielle Spritzenanlagen mit dem Rotieren der planetarischen Substratflächenstufe liefern begrenzte Substratflächenmanipulationsteildienste. In der Auslegung L400 ist die Substratflächenstufe stationär und die Magnetrons werden in der Folge vom abgegebenen mehrschichtigen verschoben. Dieses erlaubt den Gebrauch der Substratfläche abdeckend mit beweglicher Fensterladen-, HF- und GLEICHSTROM-Substratflächenvorspannung, Keilabsetzung und azimuthal Substratflächenrotation - die Merkmale, die in jeder möglicher anderen Spritzenanlage nicht erhältlich sind.

Die Kammer der Absetzung L400 hat einen differenzial gepumpten Hauptflansch für Schnellzugriff zu den Magnetrons. Die Magnetronbewegung und -index-Bewegung ist völlig rechnergesteuerte gewährende Rezept basierte Absetzung von mehrschichtigen Dünnfilmen.

Die Anlage kann für das Spritzen von Metallen, von Isolatoren und von magnetischen Materialien entweder unter Verwendung HF- oder GLEICHSTROMspritzens verwendet werden. Die maximale Zielgröße ist 4" im Durchmesser.

Last Update: 3. June 2015 10:04

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