Posted in | Sputtering Systems

DCA 仪器 L400 UHV 飞溅系统

DCA 仪器 L400 UHV 飞溅系统

L400 UHV 磁控管飞溅系统为连续飞溅设计与可移动的磁控管。 与转动星球基体阶段的常规连续飞溅系统提供有限基体处理设施。 在这个 L400 设计基体阶段固定式,并且磁控管依顺序被移动存款多层。 这允许基体屏蔽与可移动的快门, RF 和 DC 基体偏心、楔子证言和方位角基体循环 - 功能的使用不可用在其他飞溅系统。

L400 证言房间有快速存取的有差别地抽的主要耳轮缘到磁控管。 磁控管移动和索引是充分地多层薄膜的计算机控制的准许的处方基于证言。

使用 RF 或 DC 飞溅,这个系统可以为飞溅金属、装绝缘体工和磁性材料使用。 最大目标范围是 4" 直径。

Last Update: 3. June 2015 10:03

Other Equipment