Sistema Atomico di Deposito del Livello di Figi F200 di Cambridge NanoTech

Sistema Atomico di Deposito del Livello di Figi F200 di Cambridge NanoTech

La serie di Figi F200 di Cambridge NanoTech è il nostro sistema di ricerca e sviluppo di ALD più avanzato. Le Figi sono un sistema sotto vuoto spinto modulare di ALD che accomoda una vasta gamma di modi del deposito facendo uso di un'architettura di sistema flessibile e delle configurazioni multiple dei precursori e dei gas del plasma. Il risultato è una piattaforma della nuova generazione ALD capace di fare il deposito termico come pure plasma-migliorato.

Cambridge NanoTech ha combinato la sua competenza principale di ALD con le analisi avanzate di Fluidodinamica Computazionale per ottimizzare il reattore di Figi F200 ALD, il radiatore e la geometria della trappola. La geometria del reattore del hyperboloid combinata con il radiatore del substrato di paraboloide crea un flusso radicale generato plasma laminare del periferico e del precursore. Questo tipo di progettazione che potete ottenere soltanto dagli esperti informati in ALD, ottimizzate l'uniformità del deposito e minimizzate il tempo di ciclo e l'uso del precursore.

Le Figi 200 vengono in varie configurazioni compreso il Blocco Doppio del Caricamento e della Camera. Ogni camera può essere configurata con fino a sei righe del precursore del radiatore e 5 condotte di gas del plasma, offrenti la più grande flessibilità sperimentale in un'orma compatta. Prego conosciamo che cosa i vostri bisogni di ALD sono e possiamo configurare un sistema di Figi che è giusto per voi.

Last Update: 3. June 2015 10:04

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