ケンブリッジ NanoTech フィージー F200 の原子層の沈殿システム

ケンブリッジ NanoTech フィージー F200 の原子層の沈殿システム

ケンブリッジ NanoTech フィージー F200 シリーズは私達の最先端の ALD の研究開発システムです。 フィージーは前駆物質および血しょうガスの適用範囲が広いシステム・アーキテクチャそして多重構成を使用して沈殿モードの広い範囲を取り扱うモジュラー高真空 ALD システムです。 結果は熱の、また血しょう高められた沈殿をすることができる新しい世代 ALD のプラットホームです。

ケンブリッジ NanoTech は高度の計算の流体力学の分析とフィージー F200 ALD リアクター、ヒーターおよびトラップの幾何学を最適化するために一流 ALD の専門知識を結合しました。 放物面基板のヒーターによって結合される hyperboloid リアクター幾何学は薄層の前駆物質および遠隔血しょうによって生成される根本的な流れを作成します。 あなたが知識がある ALD の専門家からしか得ることができ、沈殿均等性を最適化し、そしてサイクル時間および前駆物質の使用を最小化するこのタイプのデザイン。

フィージー 200 は二重区域およびロードロックを含む複数の異なった構成入って来ます。 各区域はコンパクトな足跡の最も大きい実験柔軟性を提供する 6 つヒーターの前駆物質ラインまでおよび 5 つの血しょうガス管線と設定することができます。 私達に ALD の必要性がであり、私達があなたのために右であるフィージーシステムを設定してもいいもの知らせて下さい。

Last Update: 3. June 2015 10:05

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