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Cymer Inc.에서 NanoLith 7000.

제 4 발생 디자인은, NanoLithTM 7000 높은 볼륨 생산의 엄격한 요구에 오늘 응하기 위하여 높게 선 좁혀진 대역폭을 제공하고 있는 동안 필수 출력 전력 및 안정성을 제공합니다. NanoLith 7000는 < 0.5 pm FWHM의 대역폭을 < 1.3 pm 높은 수 가늠구멍 렌즈에 차세대 스캐너를 100개 nm 장치 잠수함을 위한 해결책을 일으키는 가능하게 하는 95% 에너지 적분 제안하고.

오늘 칩메이커는 크립톤 불화물 (KrF)를 사용하여 248 nm에게서 아르곤 불화물 (ArF)를 사용하여 193 nm에 노출 파장에 있는 중요한 전환을 주류 제조의 성과와 양 수요를 유지하고 있는 동안 만드는 광원을 찾습니다. NanoLith 7000는 이 요구에 응하기 위하여 디자인되었습니다.

NanoLith 7000의 이 이득을 고려하십시오:

  • 파장 안정화 모듈은 (WSM) 고정확도 조정 파장 최적 초점 통제, 최대 노출 위도 및 향상한 CD 통제를 지키기 위하여 통제를 전달합니다.
  • 매우 정교한 도량형학 공구는 최대 가공 한계를 전달하기 위하여 분광 분포를 낙관합니다.
  • 디자인 효율성 개선은 5의 요인에 의하여 모듈 일생 또는 5000의 시리즈 ArF 시스템 이상 소모품 감소의 비용 (CoC) 예상한 80%의 결과로 더 많은 것을 밀어줍니다.
  • 당신이 위에 셀 수 있는 신뢰도 모든 안전 규칙을 가진 수락은 NanoLith 7000에게 칩메이커를 위한 세계에게 선택합니다.
  • 당신이 위에 셀 수 있는 신뢰도 모든 안전 규칙을 가진 수락은 NanoLith 7000에게 칩메이커를 위한 세계에게 선택합니다.

Last Update: 11. January 2012 08:02

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