Eulithas nanoimprintmallar tillverkas med elektronen strålar eller dess unika EUV-lithographyteknologi. Standarda mallar inkluderar 35 nm-halva-grad linjära gallrar, och halva-graden för 53 nm pricker samlingar, båda av som göras med ovanligt kvalitets- tack till EUV-exponeringskapaciteten. Specialtillverkade mallar göras enligt kundspecifikationer med den mest passande teknologin primaa: EUV-teknologi möjliggör produktion av periodiskt med hög upplösning strukturerar (sub-100nm) över stora områden, eftersom e-stråla används för godtycklig danande mönstrar.
Applikationer av Eulithas mallar inkluderar processaa utveckling och verifikationen, nano-optik, SERS-substrates, mönstrat magnetiskt massmedia, mikroskopkalibreringen, nano-elektronik och den templated själv-enheten. Kontakta oss med dina behov för sakkunnig rådgivning från vårt värld-berömda vetenskapligt bemannar.
Stämma särdrag:
- Upplösning besegrar till 20 nm
- Anti-Adhesion att täcka (som är valfritt)
- Snabbt vänd omkring tid av 4-6 veckor
- Kombinationer för Område/upplösning (35 nm e.g. över 1cm)2