Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Eulitha Nanoimprint Mallar

Eulithas nanoimprintmallar tillverkas med elektronen strålar eller dess unika EUV-lithographyteknologi. Standarda mallar inkluderar 35 nm-halva-grad linjära gallrar, och halva-graden för 53 nm pricker samlingar, båda av som göras med ovanligt kvalitets- tack till EUV-exponeringskapaciteten. Specialtillverkade mallar göras enligt kundspecifikationer med den mest passande teknologin primaa: EUV-teknologi möjliggör produktion av periodiskt med hög upplösning strukturerar (sub-100nm) över stora områden, eftersom e-stråla används för godtycklig danande mönstrar.

Applikationer av Eulithas mallar inkluderar processaa utveckling och verifikationen, nano-optik, SERS-substrates, mönstrat magnetiskt massmedia, mikroskopkalibreringen, nano-elektronik och den templated själv-enheten. Kontakta oss med dina behov för sakkunnig rådgivning från vårt värld-berömda vetenskapligt bemannar.

Stämma särdrag:

  • Upplösning besegrar till 20 nm
  • Anti-Adhesion att täcka (som är valfritt)
  • Snabbt vänd omkring tid av 4-6 veckor
  • Kombinationer för Område/upplösning (35 nm e.g. över 1cm)2

Last Update: 23. January 2012 03:56

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment