Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Template ng Eulitha Nanoimprint

Eulitha ng nanoimprint template ay manufactured sa elektron sinag o nito natatanging EUV litograpya teknolohiya. Standard template kasama ang 35 nm kalahating-itayo linear gratings at 53 nm kalahating itayo tuldok arrays, parehong na kung saan ay ginawa gamit ang mga natatanging kalidad salamat sa kakayahan ng EUV exposure. Pasadyang ginawa template ay ginawa ayon sa mga customer pagtutukoy na may pinaka- angkop na pagpipilian ng teknolohiya: EUV teknolohiya ay nagbibigay-daan sa produksyon ng mga mataas na resolution na panaka-nakang kaayusan (sub-100nm) sa malaking lugar habang e-ngiti ay ginagamit para sa paggawa ng mga arbitrary pattern.

Application ng mga Eulitha ng template ay kinabibilangan ng pagbuo ng proseso at pagpapatotoo, nano-optika, SERS substrates, patterned magnetic media, pagkakalibrate ng mikroskopyo, nano-electronics at templated-assembly sa sarili. Makipag-ugnay sa amin sa iyong mga pangangailangan para sa ekspertong payo mula sa ating mundo-kilala pang-agham tauhan.

Key tampok:

  • Resolution down sa 20 nm
  • Anti-pagdirikit patong (opsyonal)
  • Quick bumwelta oras ng 4-6 na linggo
  • Area / resolution ng mga kumbinasyon (eg 35 nm sa 1cm 2)

Last Update: 20. October 2011 01:20

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment